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真空鍍膜設(shè)備的產(chǎn)品特點(diǎn)
日期：2026-01-24 00:06
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摘要：
真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
產(chǎn)品特點(diǎn)
采用箱式結(jié)構(gòu)，真空系統(tǒng)后置，便于操作和維修；整機(jī)表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。
設(shè)備真空系統(tǒng)抽速大，具有抽氣時(shí)間短，真空度高，生產(chǎn)周期短等優(yōu)點(diǎn)。
采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長，可達(dá)到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。
工件轉(zhuǎn)動(dòng)采用上部中心驅(qū)動(dòng)，軸承帶水冷，磁流體密封，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)。
采用石英晶體膜厚控制儀，可實(shí)現(xiàn)鍍膜過程的自動(dòng)控制。
采用鍍膜控制系統(tǒng)，人機(jī)操作界面美觀實(shí)用，系統(tǒng)穩(wěn)定，可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)操作。
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