- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點(diǎn)。真空腔體整體采用下置靶設(shè)計(jì)，濺射效果好，雜質(zhì)污染少，能*大限度的保護(hù)樣品。
桌面型靶下置型磁控鍍膜技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
桌面型靶下置型磁控鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSZ180X-I-DC-SS |
|
|
樣品臺(tái) |
外形尺寸 |
φ100mm |
|
加熱溫度 |
≦500℃ |
|
|
可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
|
|
磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X215mm |
|
觀察窗口 |
全向透明 |
|
|
腔體材料 |
304不銹鋼 |
|
|
開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級(jí)泵 |
低噪音雙極旋片泵 |
|
分子泵 |
低噪音大抽速渦輪分子泵 |
|
|
真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa |
|
|
抽氣接口 |
KF16 |
|
|
抽氣接口 |
KF40 |
|
|
排氣接口 |
KF16 |
|
|
系統(tǒng)真空 |
1.0×10-4Pa |
|
|
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
|
抽氣速率 |
分子泵抽速600L/s，前級(jí)泵抽速1.1L/s |
|
|
電源配置 |
電源數(shù)量 |
直流電源一套 |
|
輸出功率 |
500W |
|
|
其他參數(shù) |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
|
整機(jī)功率 |
2kW |
|
|
整機(jī)尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
|
