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產(chǎn)品名稱：?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺）
產(chǎn)品型號：CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS
產(chǎn)品廠商：成越科儀
產(chǎn)品文檔：

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簡單介紹：

?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺）配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)計，?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺）的樣品臺采用往復(fù)式設(shè)計，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺左右推動。

詳情介紹：

CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS往復(fù)樣品臺型雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設(shè)備配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。本型號樣品臺采用往復(fù)式設(shè)計，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺左右推動。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是實驗室制備薄膜的理想設(shè)備

技術(shù)參數(shù)：

項目

明細(xì)

產(chǎn)品型號

CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V，50Hz

整機(jī)功率

4KW

極限真空度

5x10^-4Pa

載樣臺參數(shù)

尺寸

100mm x 100mm

往復(fù)行程

200mm

磁控濺射頭參數(shù)

數(shù)量

2個2”磁控濺射頭

冷卻方式

水冷，所需流速10L/min

水冷機(jī)規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)

真空腔體

腔體尺寸

φ500mm X 490mm H

腔體材料

不銹鋼

觀察窗口

φ100mm

開啟方式

前開門式

氣體流量控制器

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S

膜厚儀

石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源1臺，500W，適用于制備金屬膜

射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜

操作方式

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

整機(jī)尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整機(jī)重量

350kg

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項目		明細(xì)
產(chǎn)品型號		CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機(jī)功率		4KW
極限真空度		5x10^-4Pa
載樣臺參數(shù)	尺寸	100mm x 100mm
	往復(fù)行程	200mm
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	2個2”磁控濺射頭
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機(jī)規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
真空腔體	腔體尺寸	φ500mm X 490mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	前開門式
氣體流量控制器		1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar
真空泵		配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀		石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
濺射電源		直流電源1臺，500W，適用于制備金屬膜射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式		CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)
整機(jī)尺寸		1090mm X 900mm X 1250mm
整機(jī)重量		350kg

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產(chǎn)品名稱：?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺）

技術(shù)參數(shù)：